第5回 プロセス化学国際シンポジウム (ISPC 2026)

会期: 2026年7月1日（水）～3日（金）
会場: アクトシティ浜松
〒430-7790 静岡県浜松市中央区板屋町111-1

（事前）ご案内

プロセス化学の国際的な知の集会！ 2026年7月浜松にて

2026年7月1日（水）～3日（金）、静岡県浜松市にて「第5回プロセス化学国際シンポジウム（ISPC 2026）」を開催いたします。本シンポジウムは、産業界とアカデミアの最前線で活躍する研究者が一堂に会し、プロセス化学に関する最新の研究成果と技術を共有して技術革新を図り、また、国際的な交流を深める場です。

13件の招待講演（詳細は添PDFをご参照ください）に加え、一般口頭発表やポスター発表を予定しております。

専用ホームページは近日公開予定です。その際は、また皆様にご連絡いたします。

今回は、日本プロセス化学会史上初となる「参加者1000名」を目標に掲げ、より多くの皆様にご参加いただけるよう準備を進めております。ぜひ職場や研究室内で情報を共有いただき、同僚・ご友人・学生さんたちをお誘い合わせのうえご参加ください。

皆様と浜松でお会いできることを、心より楽しみにしております。

招待講演者

  • Martin Eastgate (Bristol Myers Squibb, USA)
  • David Entwistle (Codexis, USA)
  • Eunpyo Hong (SK pharmteco SM Asia, South Korea)
  • Hiroshi lwamura (Chugai Pharmaceutical, Japan)
  • Takahiro Kawajiri (SHIONOGI, Japan)
  • Anil S. Khile (Eisai Pharmaceuticals India, India)
  • Dawei Ma (Shanghai Institute of Organic Chemistry, China)
  • Daniel Mink (lnnoSyn BV, The Netherlands)
  • Takashi Ohshima (Kyushu University, Japan)
  • Rebecca Ruck (MSD, USA)
  • Matthew S. Sigman (University of Utah, USA)
  • Joji Tsurumoto (iFactory, Japan)
  • Thomas Wirth (Cardiff University, UK)

重要日程

  • ポスター発表申込締切: 2026年4月3日
  • 早期参加登録締切: 2026年6月4日

主催

日本プロセス化学会 (JSPC)

ISPC2026_1st circular_0714ダウンロード

JSPC 共催／協賛／後援の申請が簡単に！フォーム更新のお知らせ

日本プロセス化学会（JSPC）の活動にご協力・ご支援をお考えの皆さまへ：
共催・協賛・後援 の申請フォームを更新しました。最新情報をご確認のうえ、ご活用ください。
フォームは「共催・協賛・後援」ページよりオンライン申請できます。

▶︎ 共催・協賛・後援フォームページ

日本プロセス化学会への入会手続きがより簡単に

日本プロセス化学会 (JSPC) にご関心をお持ちの皆さまへ、入会手続きがよりスムーズになるよう、 入会申込フォームを更新いたしました。
最新の申込書フォームは学会サイト「入会・歩み・会則」のページからアクセスできます。

入会・歩み・会則 – 日本プロセス化学会

2025JSPC優秀賞

2025 Summer SymposiumのJSPC優秀賞を掲載しました。

1P-43 原薬（EPI-589）の製造法開発：新奇な三成分（NMP溶媒和物）光学分割法の発見とニトロソアミン生成リスクを回避するフローケミストリーの活用
（住友ファーマ株式会社　プロセス研究ユニット）
〇黒田貴一、〇澤村潔人、〇臼谷弘次、田中昌彦、橋本和樹

2P-02 有機ナトリウム化合物を用いる鉄触媒カップリング反応
（1理研CSRS、2 乙卯研究所 ）　
〇高橋一光1、2　浅子壮美1、イリエシュ ラウレアン1

2P-29 アレクチニブの堅牢な生産プロセスの開発
（中外製薬株式会社　製薬研究部）
〇木村昌寛、沖友博、田中耕太、丸山典昭、田丸大介、市毛孝弘、小泉昌稔、細谷洋介、山口真未、佐藤茂樹、宮崎雄太、戸谷梓、塚崎雅雄、岩村寛、前田賢二

選考理由等詳細については、JSPC優秀賞ページをご覧ください。

参加登録受付中：日本プロセス化学会2025ウィンターシンポジウム

現在、参加登録受付中です。皆様のご参加をお待ちしております。

会期：2025年12月5日（金）

会場：
＜教育講演・シンポジウム＞
2025年12月5日（金）；京都テルサ　（京都府京都市南区東九条下殿田町70）
＜情報交換会＞
2025年12月5日（金）；THE THOUSAND KYOTO（ザ・サウザンド京都）　大宴会場「花鳥」
　　　　　　　　　　（京都府京都市下京区東塩小路町 570番）

プログラム：
＜第1部　日本プロセス化学会　教育講演＞
『流れと混合によるプロセスコントロール』
2025年12月5日（金）10：30～11：45

プロセス化学とフローケミストリーのための混合理論（仮）
浅野　周作（九州大学）

プロセス開発へのCFDモデリング・シミュレーションの活用事例（仮）
伊藤　久師（中外製薬）

＜第2部　日本プロセス化学会2025ウインターシンポジウム＞
2025年12月5日（金）12：45～17：25

アカデミア
共有結合医薬品の反応化学
王子田　彰（九州大学）　

人工翻訳＋ペプチド骨格変換で擬天然ペプチドをつくる
後藤　佑樹（京都大学）

マイクロリアクター研究が導く高速合成化学
永木　愛一郎（北海道大学）

■インダストリー
治験原薬の製造プロセスへの連続生産技術の活用（仮）～壁を乗り越えるための熱き挑戦～
川上　裕二（小野薬品工業）

HIF-PH阻害薬エナロデュスタットのプロセス開発
下間　文人（日本たばこ産業）

■JSPC優秀賞
アレクチニブの堅牢な生産プロセスの開発
〇木村昌寛　沖友博　田中耕太　丸山典昭　田丸大介　市毛孝弘　小泉昌稔　細谷洋介　山口真未　佐藤茂樹　宮崎雄太　戸谷梓　塚崎雅雄　岩村寛　前田賢二
（中外製薬株式会社）　

原薬（EPI-589）の製法開発：新規な三成分（NMP溶媒和物）光学分割法の発見とニトロソアミン生成リスクを回避するフローケミストリーの活用
〇黒田貴一　〇澤村潔人　臼谷弘次　田中昌彦　橋本和樹（住友ファーマ株式会社）

有機ナトリウム化合物を用いる鉄触媒カップリング反応
〇高橋一光1,2　浅子壮美1　イリエシュラウレアン1（1理研CSRS、2乙卯研究所）

＜情報交換会＞

2025年12月5日（金）18：00～

＜参加登録＞
参加登録　https://cdsympo.com/process2025w/03.html
事前参加登録申込・入金期限：2025年11月7日（金）16:00まで
当日参加申込・入金期限：2025年12月1日（月）10:00～12月5日（金）20:00

＜お問い合わせ＞
（株）化学工業日報社　企画部 「日本プロセス化学会2025ウィンターシンポジウム」デスク
103-8485　東京都中央区日本橋浜町3-16-8
TEL：03-3663-7936　FAX：03-3663-7861
E-mail： sympo@chemicaldaily.co.jp

＜シンポジウムWebサイト＞
https://cdsympo.com/process2025w/index.html