第5回 プロセス化学国際シンポジウム (ISPC 2026)
会期: 2026年7月1日（水）～3日（金）
会場: アクトシティ浜松
〒430-7790 静岡県浜松市中央区板屋町111-1
（事前）ご案内
プロセス化学の国際的な知の集会！ 2026年7月浜松にて
2026年7月1日（水）～3日（金）、静岡県浜松市にて「第5回プロセス化学国際シンポジウム（ISPC 2026）」を開催いたします。本シンポジウムは、産業界とアカデミアの最前線で活躍する研究者が一堂に会し、プロセス化学に関する最新の研究成果と技術を共有して技術革新を図り、また、国際的な交流を深める場です。
13件の招待講演（詳細は添PDFをご参照ください）に加え、一般口頭発表やポスター発表を予定しております。
専用ホームページは近日公開予定です。その際は、また皆様にご連絡いたします。
今回は、日本プロセス化学会史上初となる「参加者1000名」を目標に掲げ、より多くの皆様にご参加いただけるよう準備を進めております。ぜひ職場や研究室内で情報を共有いただき、同僚・ご友人・学生さんたちをお誘い合わせのうえご参加ください。
皆様と浜松でお会いできることを、心より楽しみにしております。
招待講演者
- Martin Eastgate (Bristol Myers Squibb, USA)
- David Entwistle (Codexis, USA)
- Eunpyo Hong (SK pharmteco SM Asia, South Korea)
- Hiroshi lwamura (Chugai Pharmaceutical, Japan)
- Takahiro Kawajiri (SHIONOGI, Japan)
- Anil S. Khile (Eisai Pharmaceuticals India, India)
- Dawei Ma (Shanghai Institute of Organic Chemistry, China)
- Daniel Mink (lnnoSyn BV, The Netherlands)
- Takashi Ohshima (Kyushu University, Japan)
- Rebecca Ruck (MSD, USA)
- Matthew S. Sigman (University of Utah, USA)
- Joji Tsurumoto (iFactory, Japan)
- Thomas Wirth (Cardiff University, UK)
重要日程
- ポスター発表申込締切: 2026年4月3日
- 早期参加登録締切: 2026年6月4日
主催
日本プロセス化学会 (JSPC)
