| 「第３回プロセス化学ラウンジ」開催予告と参加者募集 |
日時：2009年2月5（木）〜6日（金） 1泊2日 1.明治大学 理工学部：茅原 一之 先生 マイルドな吸着分離操作の可能性 （超臨界ＣＯ２流体中でのＢＴＸの分子ふるいカーボンへの吸着） 2.京都大学大学院 工学研究科：中尾 佳亮 先生 安定な結合活性化の新手法と触媒的炭素ー炭素結合形成反応への利用 3.エーザイ株式会社 原薬研究所：田上 克也 氏 新規抗がん剤E7389 (eribulin mesylate) のプロセス研究 4.富士フィルムファインケミカルズ株式会社：日景 繁樹 氏 マイクロリアクターを用いる有機リチウム製造プロセス 5.株式会社三菱化学 科学技術研究センター：国頭 庸一 氏 工業化段階におけるプロセス安全評価技術 6.第一三共株式会社 プロセス技術研究所：北川 豊 氏 キノロン系合成抗菌剤のプロセス研究 〜大量合成に向けた一里塚〜 募集人員：約50名 本学会正会員、学生会員、賛助会員に限る 参加費：18,000円 (大学関係者14,000円 学生9,000円) 参加登録方法：添付の申込用エクセルファイルに必要事項を記入の上、ファイル名を「プロセスラウンジ申込」としてe-mailにて下記までまでお送りください。 ■「プロセスラウンジ申込」←エクセルファイル ※申込を確認しましたら、申込確認メールを返信いたします。返信がない場合は ご連絡下さい。 参加申し込み先：化学工業日報社・企画事業局 道津 e-mail: n_doutsu@chemicaldaily.co.jp TEL03-3663-7932? FAX03-3663-7861 注意点： １）申し込み順での受付を基本といたします。本日より受け付けます。 ２）募集人数を超えた場合は同一機関（会社、大学）からの参加者人数を調整させていただくことがあります。複数お申し込みの際は可能であれば、優先順をご指定下さい。 ３）一定人数に達した後、調整して参加登録の諾否をご返事いたします。その際に振込先をお知らせします。 ４）申込書記載内容はラウンジ終了後、責任を持って消去いたします。 ５）入金の確認を持って登録完了とします。 お問い合わせ先： 第3回プロセス化学ラウンジ幹事 第一三共（株）プロセス技術研究所 日景尚睦 E-mail：processlounge3@daiichisankyo.co.jp 〒254-0014 神奈川県平塚市四之宮1-12-1 TEL：0463-31-6250 |